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| 品牌 | 冠亞恒溫 | 冷卻方式 | 水冷式 |
|---|---|---|---|
| 價格區(qū)間 | 10萬-50萬 | 產地類別 | 國產 |
| 儀器種類 | 一體式 | 應用領域 | 化工,電子/電池,航空航天,汽車及零部件,電氣 |
多通道獨立控溫冷水機 封裝溫度控制Chiller
多通道獨立控溫冷水機 封裝溫度控制Chiller
光刻工藝是半導體制造中其中溫度控制對于確保光刻膠的均勻性和光刻過程的穩(wěn)定性影響比較大。以下是一些光刻工藝中溫度控制Chiller的應用案例：
案例一：光刻膠儲存和處理的溫度控制
應用描述：光刻膠對溫度非常敏感，其化學活性和粘度會隨溫度變化而變化。因此，維持光刻膠在儲存和處理過程中的適宜溫度是必要的。
解決方案：使用Chiller為光刻膠儲存和處理系統(tǒng)提供準確的溫度控制，通常保持在5°C到10°C之間，以保持光刻膠的化學性能。
效果：光刻工藝溫度控制chiller通過維持適宜的溫度，提高了光刻膠的穩(wěn)定性和一致性，減少了光刻過程中因光刻膠性能變化引起的缺陷。
案例二：光刻機內部環(huán)境的溫度控制
應用描述：光刻機內部的環(huán)境溫度對光刻精度有直接影響。溫度變化可能導致光刻機機械部件的熱膨脹或收縮，影響對準精度。
解決方案：在光刻機內部安裝Chiller系統(tǒng)，通過恒溫恒濕系統(tǒng)維持光刻車間的溫度在22°C±1°C范圍內。
效果：光刻工藝溫度控制chiller準確的溫度和濕度控制提高了光刻過程的穩(wěn)定性和重復性，減少了因環(huán)境變化引起的缺陷。
