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半導(dǎo)體沉積工藝溫控裝置chiller使用注意事項

 更新時間:2025-03-14 點擊量:284

在半導(dǎo)體制造領(lǐng)域,沉積工藝是構(gòu)建芯片結(jié)構(gòu)的關(guān)鍵環(huán)節(jié)之一,而半導(dǎo)體沉積工藝溫控裝置 chiller對工藝的正常運行起著作用。正確使用 chiller,有助于提升半導(dǎo)體產(chǎn)品質(zhì)量和生產(chǎn)效率。

在沉積工藝啟動前,依據(jù)半導(dǎo)體材料特性與沉積工藝要求,仔細(xì)設(shè)置chiller的溫度參數(shù)。不同的沉積薄膜,其生長所需的適宜溫度不一樣,溫度出現(xiàn)偏差,就可能致使薄膜厚度不均,甚至造成晶格結(jié)構(gòu)紊亂。通常,對于常見的化學(xué)氣相沉積工藝,溫度需控制,盡量將偏差控制在較小范圍內(nèi),防止因疏忽引發(fā)產(chǎn)品質(zhì)量問題。

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Chiller所采用的冷卻介質(zhì),如水、乙二醇混合液等,得與半導(dǎo)體制造環(huán)境及工藝需求相匹配。水是較優(yōu)選擇,但在部分低溫或?qū)Ψ栏g要求高的場景下,需調(diào)配乙二醇溶液。調(diào)配時,要把控乙二醇的濃度,濃度過高,介質(zhì)黏度過大,會影響冷卻液循環(huán)效率,讓泵機負(fù)荷加重;濃度過低,又無法滿足低溫防凍需求。同時,要定期檢測冷卻介質(zhì)的電導(dǎo)率、酸堿度等指標(biāo),電導(dǎo)率超標(biāo)意味著介質(zhì)里雜質(zhì)變多,可能在管道、熱交換器表面形成沉積物,降低熱傳遞效果,建議每月至少檢測一次,保證介質(zhì)的純凈度。

在沉積工藝進行期間,實時留意設(shè)備的運行狀態(tài)。通過控制面板觀察溫度實時波動、壓力變化以及泵機轉(zhuǎn)速等參數(shù)。溫度波動過大,或許是制冷系統(tǒng)故障、熱負(fù)荷突變或溫控傳感器損壞造成的,一旦察覺溫度超出合理波動范圍,應(yīng)馬上暫停沉積工藝,排查故障根源。壓力異常升高可能是管路堵塞、冷凝器散熱不佳,壓力過低說不定是冷卻液泄漏,任何細(xì)微的壓力異常都得及時處理。此外,泵機作為冷卻液循環(huán)的動力源,要是出現(xiàn)異常振動、運行聲音變大的情況,大概率是軸承磨損、葉輪失衡,迅速停機檢修,避免冷卻液循環(huán)中斷,給沉積過程帶來影響。

維定期保養(yǎng)可以維持良好性能。日常清潔,擦拭設(shè)備外殼,預(yù)防灰塵進入電氣控制柜引發(fā)短路風(fēng)險;定期更換過濾器濾芯,依據(jù)工況定期檢查,確保冷卻液純凈流通。

新安裝或工藝調(diào)整后,半導(dǎo)體沉積工藝溫控裝置 chiller需要與沉積設(shè)備聯(lián)合調(diào)試。監(jiān)測沉積過程中晶圓表面溫度分布,結(jié)合沉積薄膜質(zhì)量反饋,微調(diào) chiller 控制參數(shù),讓二者匹配良好,保障從初始沉積到薄膜均勻生長的各個階段。


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