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TCU高低溫循環(huán)裝置的配置運行詳解

 更新時間:2022-09-05 點擊量:912

  無錫冠亞TCU高低溫循環(huán)裝置在化工行業(yè)中反應釜的隔離防爆可定制,根據用戶要求在低溫與制冷量,低溫與容器量之間合理搭配,可以滿足不同用戶的實際需要。

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  TCU高低溫循環(huán)裝置的主要作用就是對反應釜的溫度進行控制,提高傳熱效率,可滿足高工藝標準的嚴格要求,閉循環(huán)供熱,熱量損失小,使用范圍廣。

  關于冷卻盤管的裝置的取向,裝置通常在反應器內部以降低反應中材料的溫度,并且當材料粘度大或線圈需要混合模式時可以放置在外面:在介質用作加熱熱源的情況下,冷卻盤管可以放置在介質中,電阻絲的加熱取決于具體情況,但應考慮加熱作用和冷卻效果。

  TCU高低溫循環(huán)裝置采用智能PLCPC級微電腦控制系統(tǒng),可遠程及操作,具有自動加卸載,定時開關機及故障原因分析、實時記錄和顯示數據,并繪制曲線圖,數據自動保存。

  TCU高低溫循環(huán)裝置根據所需冷卻液體積來選擇循環(huán)泵型號,當然,容量越大價、溫度越低,價格也就越高。

  TCU高低溫循環(huán)裝置根據實驗需要溫度不同,選用相應溫控范圍的低溫泵。溫度越低,泵的價格越高,TCU高低溫循環(huán)裝置低溫可達-120℃。

  TCU高低溫循環(huán)裝置實驗溶液否有腐蝕性,如果是強酸/堿類型溶液則需要選購耐腐蝕的TCU高低溫循環(huán)裝置。

化工工業(yè)中,反應釜是整個化工環(huán)節(jié)的關鍵,而溫度冷卻又成為了反應需要的條件,關系到整個成品生產質量。通過冷卻盤管選擇TCU高低溫循環(huán)裝置,冷卻盤管配有冷卻入口和出口,冷卻水,制冷劑和外部循環(huán)冷卻劑。


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